锂电XRD检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

用 XRD 图来精修出分子结构研究分子的性质， 收集 XRD 时应注意些什么?

强度要高，中等强度的衍射峰强度要达到 5000 计数以上；衍射峰的分辨要尽可能的好；扫描范围要大，大 d 值的峰不能缺失。衍射峰的强度和很多因素有关，比如样品的衍射能力，性质，江苏锂电XRD检测，还有仪器功率，测试方法，检测器的灵敏度等等。

 做 XRD 时步长一般为 0.02 度，但是如果要做 Rietveld 分析，出了强度要求 500 以上，步长有没有什么要求啊？

一个半峰宽内有 3-5个点就可以了，步长一般为 FWHM 的 0.2-0.3 就可以了。强度要求在之间。

3如果用普通的xrd仪器如 brucker D8或者 philips 等测试粉末的 xrd，扫描速度需要多慢才适合用 gsas 等方法作rietveld分析，需要加内标吗？

扫描速度的快慢是根据你的数据强度要求来确定的，如果要做结构精修，中等强度的衍射峰的强度应该在 5000 以上，至于内标是不需要的。

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椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。由于测量精度高，适用于超薄膜，与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量仪器。

目前，椭偏仪是测量透明、半透明薄膜厚度的主流方法，它采用偏振光源发射激光，当光在样本中发生反射时，会产生椭圆的偏振。椭偏仪通过测量反射得到的椭圆偏振，并结合已知的输入值计算出薄膜的厚度，锂电XRD检测价格，是一种非破坏性、非接触的光学薄膜厚度测试技术。在晶圆加工中的注入、刻蚀和平坦化等一些需要实时测试的加工步骤内，椭偏仪可以直接被集成到工艺设备上，以此确定工艺中膜厚的加工终点。

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一个峰能表达一个物相强度吗？

上面说到，一般使用物相强峰的峰高或者面积来表示这个物相的衍射强度。但是，真的对这样表示吗？如果你的样品是粉末，那么你知道粉末样品是什么形状的吗？

假如是完状的，那么，无论你怎么制备样品，结果都是无任何择优取向的。因此，用一个峰的强度就可以表述一个物相的强度。遗憾的是，没有几种粉末是真正球状的。更多的是其它形状。

比如，石墨往往是片状的，有些虽然不是片状的，但也是有棱有角的，或者你可以将它们想象为长方体，三角形等等。试想想，如果在样品的压片过程中，有人为的因素，比如抖动一下，结果会怎么样呢？粉末的排列是不是还会是完全无序的呢？肯定不是，它们总是会朝着“整齐”的姿态排列。这就是我们的不幸，因为粉末颗粒排列得越整齐，也就是它们越有序，越是我们所不期望的。

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