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甘肃AlGaN材料XRD检测 半导体研究所
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AlGaN材料XRD检测XRD残余应力检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


晶面衍射方位角ψ

依据光学的反射定律,参与衍射的晶面,AlGaN材料XRD检测报告,其法线必定处于入射线与反射线的角平分线方位上,如图2所示。衍射晶面法线与试样表面法线的夹角即为衍射晶面法线方位角,通常用ψ表示。

依据布拉格定律,可以测定ψ所对应方位上的晶面间距dψ。如果已知无应力状态的晶面间距d0,便可以测定方位上的晶格应变εψ。

sin2ψ法的适用范围

S1,S2与S3为试样表面坐标轴,S1由研究人员定义。图3为X射线衍射残余应力测定坐标系统。

依据广义胡克定律,这些晶面的应变是由O点的应力张量决定的,并且与φ、ψ的正余弦、材料的杨氏模量和泊松比等参量密切相关。因此,有可能依据这些的关系求得O点的三维应力,包括应力σφ。由弹性力学可以导出OP方向上的应变的表达式。对于大多数材料和零部件来说,X射线穿透深度只有几微米至几十微米,因此通常假定σ33=0。


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薄膜样品在基底上以二维形式存在,通常在平行厚度方向或者面内方向具有强烈的各向异性。因此,AlGaN材料XRD检测价格,一般我们讨论材料的性能和特点时一般有两个方向,一个是沿厚度方向,AlGaN材料XRD检测机构,另一个是面内方向(晶面垂直于宏观平面生长的方向)。我们对薄膜的表征包含晶格常数,甘肃AlGaN材料XRD检测,晶格畸变,晶体取向以及晶粒尺寸等。此外,薄膜分析通常包括薄膜特有的结晶相、亚稳相、外延薄膜中的畸变/弛豫等。

除上述外,X射线反射率的方法可以被用来表征薄膜的各种特征,例如厚度,密度,粗糙度等。该方法适用于晶态、非晶态以及多层膜的表征。




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X射线衍射(XRD)是一种用于表征结晶材料的强大的非破坏性技术。 它提供有关晶体结构、相、优选晶体取向(纹理)和其他结构参数的信息,例如平均晶粒尺寸、结晶度、应变和晶体缺陷。 此外,X 射线衍射峰是由从样品中每组晶格平面以特定角度衍射的单色 X 射线束的相长干涉产生的。 峰强度由晶格内原子的分布决定。 因此, X射线衍射图案是给定材料中周期性原子排列的指纹湖 。

单晶XRD检测理想用途

一、晶相的鉴定/定量

测量散装材料和薄膜中的平均微晶尺寸、应变或微应变效应

量化薄膜、多层堆叠和制造部件中的优选取向(纹理)

确定散装材料和薄膜中结晶材料与非晶材料的比例

适用于各种散装和薄膜样品的相识别

检测微小晶相(浓度大于~1%)

确定多晶薄膜和材料的微晶尺寸

确定结晶形式的材料相对于无定形的百分比

测量亚毫克松散粉末或干燥溶液样品以进行相鉴定

分析薄至50?的薄膜的质构和相位行为

确定外延薄膜中的应变和成分

确定单晶材料的表面切口

后,测量大块金属和陶瓷中的残余应力




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